リチウムリン硫化物スパッタリングターゲットの説明
硫化リチウムスパッタリングターゲット、Li₃PS₄は、高性能スパッタリングアプリケーション用に精密に設計されています。99%以上の純度とカスタマイズ可能な形状(ディスクまたはカスタムメイド)により、このターゲットは半導体、太陽光発電、および先端コーティング産業における薄膜蒸着プロセスに最適です。この製品は、様々な処理条件下でも構造的完全性を維持し、要求の厳しい生産環境においても信頼性の高い性能を保証します。
硫化リチウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体デバイス製造および光学コーティングに使用されるスパッタリングプロセス用に最適化されています。
- 太陽電池製造均一な成膜により、高効率太陽電池の製造を強化します。
- 先端コーティング:さまざまな産業用途における保護膜や機能膜の形成に最適です。
- 研究開発最先端技術における革新的な材料研究やプロトタイプ開発をサポート。
硫化リチウムスパッタリングターゲットパッキング
当社の硫化リンリチウムスパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性と高純度を維持するために慎重に梱包されています。特定のお客様のご要望にお応えするため、カスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: 硫化リチウム・スパッタリング・ターゲットLi₃PS₄はどのような用途に最適ですか?
A: 半導体製造用の薄膜蒸着、太陽電池製造、高度なコーティングプロセス、材料科学の研究用途に最適です。
Q: Li₃PS₄の高純度(99%以上)はどのように保証されていますか。
A: ₄の純度レベルを達成し維持するために、材料は厳格な品質管理と最先端の加工技術を受けています。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか。
A: はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定のサイズや形状の要件を満たすために特注することもできます。
Q: Li₃PS₄の指定融点はありますか。
A: この材料の融点は、スパッタリング用途での性能に直接関係しないため、現在のところ該当なしと記載されています。
Q: このスパッタリングターゲットを使用すると、一般的にどのような産業が恩恵を受けますか?
A: Li₃PS_2084スパッタリングターゲットの高性能特性は、半導体製造、太陽光発電、先端コーティング、様々な研究開発分野などの産業で役立っています。