塩化リチウム スパッタリング ターゲット 説明
塩化リチウムスパッタリングターゲットは、高度なスパッタリングアプリケーション用に特別に設計された高性能材料です。 厳格な品質管理のもと製造されたこのターゲットは、99%以上の純度を誇り、ディスク状または独自の生産仕様に合わせたカスタムメイドで入手可能です。 このターゲットは、薄膜蒸着において一貫した信頼性の高い性能を発揮するように設計されており、基板全体にわたって優れた密着性と均一性を保証します。融点605 °C、密度2.07 g/cm³など、その明確な物理的特性により、精密さと信頼性が要求される環境において不可欠なコンポーネントとなっています。
塩化リチウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:マイクロエレクトロニクスおよび半導体デバイスにおける高品質で均一な薄膜の製造に最適です。
- 半導体製造:精密なコーティングが要求される先端半導体の製造に利用されています。
- 太陽電池ソーラーパネル用の効率的で高性能な光起電力層の作成をサポートする。
- LEDおよびディスプレイ技術高品質の発光ダイオードとディスプレイ製造のための安定したスパッタリング結果を提供します。
塩化リチウムスパッタリングターゲットパッキング
当社の塩化リチウムスパッタリングターゲットは、その完全性と純度を維持するために慎重に梱包されています。標準ディスクとして、または特定のアプリケーションのニーズに合わせたカスタム形状でご利用いただけます。
よくある質問
Q: 塩化リチウムスパッタリングターゲットはどのような用途に使用されますか?
A: 主に薄膜蒸着、半導体製造、太陽電池製造、LED/ディスプレイ技術に使用されます。
Q: なぜ塩化リチウム・スパッタリング・ターゲットは高純度が重要なのですか?
A: 高純度(99%以上)はスパッタリングプロセス中の汚染を最小限に抑え、信頼性の高い均一な成膜を実現します。
Q: このスパッタリングターゲットでは、特注の形状やサイズは可能ですか?
A: はい、塩化リチウム・スパッタリング・ターゲットは、特定の用途や装置の要件に合わせてカスタマイズすることができます。
Q: 融点605℃は性能にどのように影響しますか?
A: 融点はスパッタリング条件下でのターゲットの熱安定性を示し、高温での安定した性能を保証します。
Q: どのような保管条件が推奨されますか?
A: ターゲットの純度を維持し、劣化を防ぐため、乾燥した湿度管理された環境での保管をお勧めします。