リチウムランタン酸化チタンスパッタリングターゲット 説明
リチウムランタン酸化チタンスパッタリングターゲットは、薄膜、半導体、光学コーティングアプリケーションで使用される精密蒸着プロセスで完璧を期すために設計されています。厳格な品質管理の下で製造されたこのターゲットは、高純度と一貫した性能を保証し、信頼性と優れた品質を必要とするハイテク産業プロセスに最適です。
リチウムランタンチタンスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:電子機器や光学機器における均一な薄膜作製に最適です。
- 半導体デバイス製造精密な特性を持つ高性能半導体層の製造に不可欠。
- 光学コーティング高度なフォトニクス用途の反射層や反射防止層を強化します。
- 先端コーティング:工業用や研究用の保護膜や機能膜に応用される。
リチウムランタンチタンオキシドスパッタリングターゲットパッキング
当社のリチウムランタン酸化チタンスパッタリングターゲットは、輸送および保管中の製品の完全性と品質を確保するため、特殊な方法で梱包されています。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: リチウムランタン酸化チタンスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体、光学デバイス、高機能コーティングの製造における薄膜蒸着に使用されます。
Q: 高純度(99%以上)はスパッタリングプロセスにどのようなメリットをもたらしますか?
A: 高純度であるため、成膜プロセスにおける不純物が最小限に抑えられ、膜質の向上、性能の改善、最終用途における信頼性の向上につながります。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズ可能ですか?
A: はい、標準的なディスク形状のほか、特定の寸法要件を満たすカスタムメイドも可能です。
Q: LiLaTiO3は材料性能の面でどのような特徴がありますか?
A: LiLaTiO3は電気的、熱的安定性に優れており、先端技術分野における高精度アプリケーションに最適です。
Q: リチウムランタン酸化チタンスパッタリングターゲットはどのように梱包されて出荷されますか?
A: ターゲットは、品質を維持するために管理された条件下で梱包されます。ご注文のサイズやお客様の仕様に応じて、カスタム梱包も可能です。