酸化ガリウム スパッタリング ターゲット 説明
酸化ガリウムスパッタリングターゲットGa2O3は、品質と性能に細心の注意を払って製造されています。99%以上の高純度で開発されたこれらのターゲットは、ディスクやカスタムメイド形状など様々な形状で提供され、多様な産業要件に対応します。 優れた信頼性のために設計されたGa₂O₃は、厳しい条件に耐え、半導体製造、オプトエレクトロニクス、その他の先端技術分野における高精度薄膜蒸着に理想的な選択肢となります。高融点と比密度のユニークな組み合わせにより、優れた熱安定性と信頼できる化学的性能を保証します。
酸化ガリウムスパッタリングターゲット用途
- 半導体製造最新の半導体デバイスの薄膜蒸着プロセスに不可欠。
- オプトエレクトロニクス:LED、レーザーダイオード、その他の光学部品の製造に使用されます。
- 表面コーティング高度な工業用途における高品質で均一なコーティングの製造に最適。
- 研究開発:材料科学の研究や新技術の革新のために研究所で使用される。
酸化ガリウムスパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ガリウムスパッタリングターゲットは、取り扱い時および出荷時に最適な製品の完全性を確保するため、厳重に梱包されています。標準的な梱包オプションには、高純度と性能を維持するために調整された真空密封容器があり、お客様のご要望に応じて様々なサイズをご用意しています。
よくある質問
Q: 酸化ガリウムスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、オプトエレクトロニクス、表面コーティング、先端材料研究に使用されます。
Q: Ga₂O₃の高融点は、その性能にどのような利点がありますか?
A: 融点が高いため、高エネルギー蒸着プロセスにおける熱安定性が確保され、膜質と耐久性が向上します。
Q: 酸化ガリウムスパッタリングターゲットは、特定の産業要件に合わせて特注できますか?
A: はい、ディスクとして製造することも、お客様の仕様に基づき正確な形状やサイズにカスタマイズすることも可能です。
Q: ターゲットにはどのような品質保証がありますか?
A: ターゲットは純度99%以上で製造され、業界標準に適合するよう厳格な品質管理手順を経ています。
Q: 酸化ガリウムスパッタリングターゲットは、品質を維持するためにどのように保管すべきですか?
A: 汚染物質への暴露を最小限に抑え、清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。