シリコン(Si)スパッタリングターゲット 商品概要
シリコン(Si)スパッタリングターゲット、アンドープターゲットは、半導体デバイス製造、薄膜蒸着、およびその他の先端材料用途向けに開発された特殊な高純度ターゲットです。最先端の製造技術を駆使したこのスパッタリングターゲットは、一貫した性能、優れた均質性、信頼できる機械的安定性を保証します。ドープされていないため、成膜プロセス中の干渉が最小限に抑えられ、さまざまなハイテク用途に最適です。
シリコン(Si)スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイス製造:高性能電子部品の製造に不可欠
- 薄膜蒸着:太陽電池や光学コーティング用の精密膜の製造に最適。
- 研究開発:材料科学の研究や高度な研究用途に広く使用されている。
- MEMSとセンサー:微小電気機械システムおよびセンサーデバイスの製造をサポート。
- 工業用コーティング表面特性を向上させるために、さまざまなコーティング工程で使用される。
シリコン(Si)スパッタリングターゲットパッキング
当社のシリコン(Si)スパッタリングターゲットは、品質と完全性を保つために細心の注意を払って梱包されています。汚染や環境要因から保護するために設計された真空密封包装でお届けします。安全な輸送と保管を保証するため、お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: シリコンスパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: 主に半導体デバイス製造、太陽電池や光学コーティングの薄膜蒸着、先端研究やMEMS製造に使用されます。
Q: 製造中のシリコンの純度はどのように保たれているのですか?
A: 純度99%以上を保証する最先端の精製・製造プロセスを使用しており、不純物を減らし、性能を高めています。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状に加えて、当社のシリコンスパッタリングターゲットは、特定の寸法や要件を満たすようにカスタムメイドすることができます。
Q: ターゲットの取り扱いにはどのような注意が必要ですか?
A: ターゲットは、清潔な工具を使用し、手袋を着用し、清潔で乾燥した環境で真空密封されたパッケージで保管しながら、慎重に取り扱うことをお勧めします。
Q: このターゲットは高温用途に適していますか?
A: 1414℃の融点と優れた熱安定性により、高温条件下でも効果的に作動するように設計されています。