タングステンドープ酸化インジウムスパッタリングターゲット、IWO 説明
タングステンドープ酸化インジウムスパッタリングターゲット、IWOは、高度な蒸着技術のために設計され、高純度とカスタマイズ可能な構成を提供します。In2O3とWO3の正確なブレンドで製造されたこのターゲットは、堅牢な接合特性とともに優れた熱安定性を示し、要求の厳しいスパッタリングシステムに最適です。
半導体製造と薄膜コーティングプロセスの厳しい要件を満たすように設計されたこのターゲットは、高融点と一貫した密度を維持し、優れた性能を発揮します。また、カスタマイズ可能な形状により、様々な産業用途に合わせたソリューションを提供します。
タングステンドープ酸化インジウムスパッタリングターゲット、IWO用途
- 半導体蒸着:デバイス製造における高品質薄膜アプリケーションに最適。
- ディスプレイ技術:フラットパネルディスプレイの均一な導電性酸化物層の製造に適しています。
- 太陽電池: 精密なコーティングアプリケーションにより、太陽電池の性能と効率を向上させます。
- 工業用コーティング様々な機械の保護層や機能層の表面特性を向上させます。
タングステンドープ酸化インジウムスパッタリングターゲット、IWOパッキング
当社のスパッタリングターゲットは、保管および輸送中の製品の完全性を確保するため、カスタマイズされたパッケージングソリューションを使用して安全に梱包されます。オプションには、清浄度を維持し汚染を防止するための特別に設計された容器や保護梱包材が含まれます。
よくある質問
Q: タングステンドープ酸化インジウムスパッタリングターゲットは、一般的にどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、ディスプレイ技術、太陽光発電アプリケーション、工業用コーティングプロセスで一般的に使用されています。
Q: 純度99%以上のターゲットはどのようにして確保されるのですか?
A: ターゲットは、製造中に高度な精製技術と包括的なテストを用いて厳格な品質管理を受けます。
Q: スパッタリングターゲットの形状をカスタマイズできますか?
A: はい、製品は標準ディスクとして入手可能ですが、特定の要件に合わせて特注することもできます。
Q: タングステンドーピングはスパッタリングターゲットにどのような利点をもたらしますか?
A: タングステンのドーピングは、導電性、熱安定性、全体的な耐久性を高め、優れた性能を保証します。
Q: この製品に特別な保管条件はありますか?
A: 最適な性能を維持するためには、汚染物質への暴露を最小限に抑え、清潔で乾燥した環境で保管してください。