モリブデン ニオブ スパッタリング ターゲット 説明
モリブデン・ニオブ・スパッタリングターゲット(Mo/Nb)は、高度なスパッタリング用途向けに設計されています。高純度(99%以上)と精密な材料工学に重点を置いて製造されたこのターゲットは、特定の産業要件を満たすためにディスクまたはカスタムメイドの形状でご利用いただけます。2296℃の強固な融点と9.2g/cm³の密度は、高温スパッタリングプロセスにおける信頼性の高い性能を保証します。ボンディングタイプにインジウムを採用することで、さまざまな成膜システムとの互換性をさらに高め、半導体、光学、および高度なコーティング用途に最適です。
モリブデン・ニオブ・スパッタリング・ターゲットの用途
- 物理蒸着(PVD):半導体やディスプレイ産業における薄膜やコーティングの製造に不可欠。
- 先端コーティング:ハイテク機器の耐摩耗性、耐腐食性コーティングの製造に使用される。
- 研究開発:材料科学や工学の研究室での実験セットアップに最適。
- エレクトロニクス電子機器やセンサーの製造工程における重要なコンポーネント。
モリブデン・ニオブ スパッタリング ターゲット梱包
当社のスパッタリングターゲットは、管理された条件下で慎重に梱包され、保管および輸送中も最適な製品の完全性を維持します。この高性能材料を安全にお届けするため、ご要望に応じてカスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリング・ターゲットとは、物理蒸着(PVD)プロセスにおいて、様々な基板上に薄膜やコーティングを形成するために使用される材料です。
Q: Mo/Nbスパッタリングターゲットの純度はどのように保たれていますか?
A: ターゲットは厳格な品質管理の下で製造され、高精度の用途に不可欠な99%以上の純度を満たしています。
Q: このスパッタリングターゲットを使用することで最も恩恵を受けるのはどのような業界ですか?
A: 半導体製造、先端光学、エレクトロニクス、研究所などの業界では、高性能コーティングプロセスにスパッタリングターゲットを使用するのが一般的です。
Q: スパッタリングターゲットのサイズや形状を特注できますか?
A: はい、この製品はディスクとして入手可能であり、またお客様の特定の要求に応えるために特注することも可能です。
Q: 2296℃という高い融点は、ターゲットの性能にどのように貢献していますか?
A: 融点が高いため、ターゲットは高温のスパッタリングプロセスに耐えることができ、様々な用途で信頼性の高い安定した性能を発揮します。