チタン酸カルシウム スパッタリング ターゲット 説明
チタン酸カルシウムスパッタリングターゲット、CaTiO3は、RFおよびDCスパッタリングアプリケーションの両方で卓越した性能を発揮するように設計されています。 純度99%以上で製造されたこのターゲットは、多様な産業ニーズに対応するため、ディスクまたはカスタムメイドの形態でご利用いただけます。その強固な組成により安定したスパッタリング性能が保証され、薄膜蒸着、マイクロエレクトロニクス、高度なコーティング技術に理想的な選択肢となります。最先端の製造技術を駆使した当社のスパッタリングターゲットは、厳しい使用環境においても高い信頼性と安定した性能を発揮します。
チタン酸カルシウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着マイクロエレクトロニクス部品や光学コーティングの製造に最適です。
- 半導体プロセス誘電体および導電層の成膜に使用されます。
- ディスプレイ技術:フラットパネルディスプレイや太陽電池の用途に最適。
- コーティング用途:様々な工業用工具や部品に高品質のコーティングを提供。
- 研究開発:実験セットアップや革新的な材料研究に適しています。
チタン酸カルシウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のチタン酸カルシウムスパッタリングターゲットは、保管および輸送中の製品の完全性を確保するため、細心の注意を払って梱包されています。 各ターゲットは真空密封され、原始的な状態を維持するためにしっかりと梱包されており、お客様の特定の要件に合わせてカスタマイズされたサイズをご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットとは、物理的気相成長(PVD)プロセスにおいて、スパッタリング技術によって基板上に薄膜を堆積させるために使用される材料ソースのことです。
Q: このターゲットはどのスパッタリング法に使用できますか?
A: このターゲットは、RFおよびDCスパッタリング法の両方に対応しており、薄膜蒸着アプリケーションの汎用性を可能にします。
Q: チタン酸カルシウムターゲットの純度は性能にどのように影響しますか?
A: 高純度(99%以上)であるため、成膜中のコンタミネーションが最小限に抑えられ、優れた膜質と高度な用途向けの安定した性能が得られます。
Q: 一般的にどのような産業でチタン酸カルシウムのスパッタリングターゲットが使用されていますか?
A: マイクロエレクトロニクス、半導体製造、光学コーティング、ディスプレイ技術などの業界で一般的に使用されています。
Q: チタン酸カルシウムスパッタリングターゲットのカスタムサイズを入手することは可能ですか?
A: はい、ターゲットは特定のサイズとアプリケーションの要件を満たすカスタムメイドの形状で入手可能であり、お客様の生産プロセスへの最適な統合を保証します。