酸化リチウムニッケルスパッタリングターゲット 説明
リチウムニッケル酸化物スパッタリングターゲット、LiNiO2は、最新の薄膜蒸着技術の厳しい要求を満たすように設計されています。99%以上の純度で製造され、カスタマイズ可能な形状とサイズを提供するこのターゲットは、高精度のアプリケーションで一貫した性能を保証します。その堅牢な組成と高い融点は、安定した信頼性の高いスパッタリングプロセスを必要とする環境に適しており、重要な分野におけるデバイス性能を向上させます。
リチウムニッケル酸化物スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:電子回路やマイクロデバイスの薄膜成膜に最適です。
- 薄膜電池:性能と耐久性が重要視される高度なエネルギー貯蔵システムの製造に使用されます。
- 電子ディスプレイ高解像度ディスプレイやセンサー・アプリケーションのコーティング・プロセスをサポートします。
- コーティング技術:工業用部品の耐摩耗性や導電性を高めるための表面技術に使用されています。
酸化リチウムニッケルスパッタリングターゲットパッケージング
当社の酸化リチウムニッケルスパッタリングターゲットは、高純度と性能を維持するために管理された条件下でパッケージングされています。
- 標準梱包:真空密封容器により、汚染を最小限に抑えます。
- カスタム包装:輸送および保管中の製品の完全性を保証するため、特定のお客様の要件に基づいてご利用いただけます。
よくある質問
Q: リチウムニッケル酸化物スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、薄膜電池製造、電子ディスプレイ、高度なコーティングプロセスにおける薄膜蒸着に使用されます。
Q: 99%以上の高純度はどのように維持されているのですか?
A: 当社の製造プロセスには、最先端の精製技術と厳格な品質管理が組み込まれており、すべてのターゲットが高純度基準を満たしています。
Q: ターゲットは特定のサイズや形状にカスタマイズできますか?
A: はい、酸化リチウムニッケルスパッタリングターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定のアプリケーション要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: なぜ酸化リチウムニッケルがスパッタリングターゲットに選ばれるのですか?
A: 酸化リチウムニッケルは、高温条件下で優れた熱安定性と性能を発揮するため、高度な薄膜蒸着プロセスに非常に適しています。
Q: スパッタリングターゲットの保管条件は?
A: 汚染を防ぎ、製品の完全性を保つために、管理された乾燥環境でターゲットを保管し、真空密封包装を使用することをお勧めします。