イットリウム鉄ガーネットPLDターゲットの説明
イットリウム鉄ガーネットPLDターゲット、Y3Fe5O12、YIGは、需要の高い蒸着技術用に特別に設計されています。このターゲットは、最先端のプロセスを駆使し、パルスレーザー蒸着中に信頼性の高い膜成長を確実にするために、卓越した純度と一貫した性能を提供します。精密加工されたディスクまたはカスタムメイドの形状は、高度な電子、光学、磁気アプリケーションの厳しい要求を満たすように設計されています。
イットリウム鉄ガーネットPLDターゲット用途
- 薄膜蒸着:電子および光電子デバイス用の高品質薄膜の製造におけるパルスレーザー蒸着(PLD)に最適。
- 磁気デバイス:マイクロ波コンポーネント、サーキュレーター、アイソレーター、その他の磁気アプリケーションの製造に使用される。
- スピントロニクス:最先端のスピントロニクス・デバイスに必要な高度な磁気均一性を提供。
- 研究開発:先端材料研究および成膜技術における学術および産業界の研究開発に不可欠です。
イットリウム鉄ガーネットPLDターゲットパッキン
当社のイットリウム鉄ガーネットPLDターゲットは、汚染されることなく最適な性能を維持できるよう、細心の注意を払って梱包されています。カスタマイズされたパッケージングオプションが可能で、標準的な真空密封パッケージングは、保管中および輸送中にターゲットを保護するように設計されています。
よくある質問
Q: YIG PLDターゲットがパルスレーザー蒸着に適している理由は何ですか?
A: 高純度(99%以上)、正確な組成、設計された微細構造により、PLDプロセスにおいて安定した成膜が可能です。
Q: ターゲットはカスタムサイズや形状で製造できますか?
A: はい、YIG PLDターゲットはディスクとして入手可能で、特定のアプリケーション要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: このターゲットの主な物理的特性は何ですか?
A: 融点は~1795 °C、密度は5.17 g/cm³で、高温成膜条件下での安定性を確保しています。
Q: YIG PLDターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: エレクトロニクス、光学、磁気デバイス製造、精密な薄膜蒸着を必要とする研究環境で広く使用されています。
Q: YIG PLDターゲットはどのように包装されますか?
A: ターゲットは真空密封され、保管や輸送中の汚染や物理的損傷から保護するために慎重に梱包されます。