カドミウム砒素スパッタリングターゲットの説明
カドミウムヒ素スパッタリングターゲットCd3As2は、工業用スパッタリングアプリケーション用に特別に設計されています。純度99%以上で、ディスクやテーラーメイド構成などカスタマイズ可能な形状により、本製品は一貫した性能と精度を提供します。融点716 °C、密度3.031 g/cm³などの物理的特性により、厳しい加工条件下での信頼性と安定性を保証します。
カドミウムヒ素スパッタリングターゲット用途
- 表面コーティング:エレクトロニクスや高度な光学コーティングの薄膜成膜に不可欠。
- マイクロエレクトロニクス半導体膜や集積回路の製造に最適。
- 研究開発:高純度スパッタリングターゲットを必要とする実験セットアップに利用。
- カスタム産業用途:カスタマイズされた形状は、特殊なスパッタリングプロセスや装置との互換性を容易にします。
カドミウムヒ素スパッタリングターゲットパッキング
当社のカドミウムヒ素スパッタリングターゲットは、純度と構造的完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。梱包オプションには、保護用真空密閉容器や、お客様の出荷要件に合わせたカスタム梱包設計があり、安全な保管と輸送を保証します。
よくある質問
Q: カドミウムヒ素スパッタリングターゲットは一般的にどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、エレクトロニクス、光学コーティング業界で広く使用されています。
Q: 特注のサイズや形状はどのように提供されますか?
A: カスタム製造オプションにより、様々なスパッタリングシステムとの最適な互換性を実現するために、特定の顧客要件に合わせて製品を調整することができます。
Q: この製品にはどのような品質管理措置がとられていますか?
A: 業界標準への準拠と性能の一貫性を保証するため、すべてのバッチは厳格な品質管理テストを受けています。
Q: なぜ高融点がスパッタリングターゲットにとって重要なのですか?
A: 高融点は高温スパッタリングプロセス中の安定性を確保し、ターゲットの全体的な性能と信頼性を高めます。
Q: 大量購入の前にサンプルを提供してテストすることはできますか?
A: はい、お客様の特定のアプリケーション条件での評価を可能にするため、サンプルのリクエストに対応することができます。