熱分解黒鉛スパッタリングターゲット、Cの説明
熱分解グラファイトスパッタリングターゲットCは、産業および研究環境における高性能成膜アプリケーション用に設計されています。優れた純度と精度で製造されたこのターゲットは、スパッタリングプロセス中の効率的なエネルギー伝達を促進し、均一な成膜と基板への密着性の向上を実現します。堅牢な熱特性とユニークな組成により、高い熱安定性と信頼性の高い性能を必要とする用途に最適です。
熱分解黒鉛スパッタリングターゲット、C用途
- 半導体製造マイクロエレクトロニクスの薄膜製造に最適です。
- 真空蒸着光学、電子、先端材料用途のコーティングに利用。
- 工業用コーティング高温の工業環境で優れた性能を発揮。
- 研究開発材料科学における特殊な実験や試作に適している。
熱分解黒鉛スパッタリングターゲット、Cパッケージング
当社の熱分解黒鉛スパッタリングターゲットCは、保管中および輸送中の完全性を維持するために慎重に梱包されています。
- 真空シール包装
- カスタマイズサイズも可能
- ご要望に応じた梱包量
よくある質問
Q: 熱分解黒鉛スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主にスパッタリング成膜プロセスで使用され、電子、光学、工業用途の高品質薄膜を製造します。
Q: 99%以上の純度はスパッタプロセスにどのようなメリットをもたらしますか?
A: 高純度であるため、成膜中のコンタミネーションが最小限に抑えられ、優れた膜質と安定した性能が保証されます。
Q: このスパッタリングターゲットはサイズをカスタマイズできますか?
A: はい、熱分解黒鉛スパッタリングターゲットCは、特定の要件を満たすためにカスタマイズされたサイズで入手可能です。
Q: このターゲットにインジウムボンドを使用する意味は何ですか?
A: インジウムボンドは、スパッタリング中の効率的な熱伝導を保証し、高温条件下での安定した性能に貢献します。
Q: この製品は高温用途に適していますか?
A: もちろんです。融点が高く、熱安定性が高いため、高温スパッタリングや真空蒸着プロセスに最適です。