酸化ガリウム-酸化マグネシウム スパッタリングターゲット 説明
酸化ガリウム-酸化マグネシウムスパッタリングターゲット、Ga2O3-MgOは、精密スパッタリングアプリケーションで卓越した性能を発揮するように設計されています。プレミアムグレードのGa₂O₃-MgOで製造され、厳格な品質管理の下で生産されたこのスパッタリングターゲットは、99%以上の純度を提供し、カスタマイズ可能なディスク形状で提供されます。ハイテク産業における薄膜成膜プロセスの要求を満たすよう特別に設計されており、材料移動の均一性と効率を保証します。
酸化ガリウム-酸化マグネシウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:オプトエレクトロニクス、ディスプレイ、光電池に使用される高品質の酸化ガリウム薄膜の作成に最適です。
- 半導体加工:高度な電子部品や半導体デバイスの製造に使用されます。
- 研究開発:様々な科学的応用のための実験的研究や革新的材料の開発に適している。
- 工業用コーティング:産業機器の耐摩耗性と耐食性を高めるための、安定した耐久性のあるコーティングを提供する。
酸化ガリウム-酸化マグネシウムスパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ガリウム-酸化マグネシウム スパッタリング ターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持する方法で安全に梱包されています。 特定の出荷および取り扱い要件を満たすために、ご要望に応じてカスタム梱包オプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q: このスパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: オプトエレクトロニクス、半導体製造、研究用途の薄膜蒸着に最適で、高純度で均一な材料分布を提供します。
Q: 純度99%以上のターゲットはどのようにして維持されているのですか?
A: ターゲットは、精密スパッタリングに必要な高純度基準を満たすために、高度な加工技術と厳格な品質管理手段を用いて製造されています。
Q: 製品のカスタマイズは可能ですか?
A: はい、製品はディスク状で入手可能です。また、特定の用途要件を満たすために特注することも可能です。
Q: スパッタリングターゲットを保管する際の注意点は何ですか?
A: 汚染を防ぎ、高品質の仕様を維持するため、ターゲットは清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。
Q: カスタムオーダーの問い合わせや追加の技術サポートはどこに連絡すればよいですか?
A: 当社の営業および技術サポートチームが、カスタムオーダーや技術的なご質問を承ります。