セレン化ゲルマニウム スパッタリング ターゲット 説明
セレン化ゲルマニウムスパッタリングターゲット、GeSeは、半導体および薄膜産業における高精度スパッタリングプロセス用に特別に設計されています。99%以上の純度で製造され、ディスクまたはカスタマイズされた形状で利用可能なこのターゲットは、複雑なアプリケーションの一貫した性能と信頼性の高い蒸着特性を保証します。融点667 °C、密度5.6 g/cm³などの堅牢な材料特性により、安定した熱的・機械的性能を必要とする環境に最適です。
セレン化ゲルマニウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびオプトエレクトロニクスデバイスの高品質GeSe膜の成膜に利用される。
- 太陽光発電: エネルギー変換にカルコゲナイド層が重要な太陽電池の製造に応用される。
- マイクロエレクトロニクス集積回路製造のための精密な材料移動が必要なプロセスで採用されている。
- 研究開発:高純度スパッタリングターゲットを必要とする実験セットアップや材料科学研究に最適です。
- カスタム産業用途:特殊な薄膜コーティングプロセスのカスタマイズ設計に適しています。
セレン化ゲルマニウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のセレン化ゲルマニウムスパッタリングターゲットは、構造的完全性と純度を維持するために安全に梱包されています。標準梱包オプションには真空密封容器が含まれ、安全な輸送と保管を保証するため、ご要望に応じてカスタム梱包も可能です。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットとは、イオンボンバードメントの下で材料原子を放出させ、基板上に薄膜を成膜するスパッタリングプロセスで使用される高純度材料のことです。
Q: セレン化ゲルマニウムスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: これらのターゲットは、半導体製造、オプトエレクトロニクス、太陽光発電、その他精密な薄膜成膜を必要とする先端産業用途で広く使用されています。
Q: セレン化ゲルマニウムターゲットの高純度(99%以上)はどのように確保されているのですか?
A: 高純度は、原料選択時の厳格な品質管理と、不純物を最小限に抑える高度な製造技術によって維持されています。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズのカスタマイズは可能ですか?
A: はい、標準的なディスク形状に加え、特定のアプリケーション要件を満たすカスタムメイドのオプションもご利用いただけます。
Q: この製品にはどのような保管・取り扱い上の注意が必要ですか?
A: 汚染を防ぎ、その材料特性を維持するために、ターゲットは清潔で乾燥した環境、できれば真空密封包装で保管することをお勧めします。