ゲルマニウム アンチモン セレン テルル スパッタリング ターゲット 説明
ゲルマニウムアンチモンセレンテルルスパッタリングターゲット、GeSbSeTeは、高度な薄膜蒸着プロセス用に設計されています。 高精度で製造され、99%以上の純度レベルに維持されたこのターゲットは、半導体製造、光学コーティング、およびメモリーストレージデバイスのアプリケーションに最適です。形状はカスタマイズ可能で、ディスクまたはカスタムメイドのデザインで提供されるため、特定のプロセス要件に合わせたソリューションが可能です。ボンディングタイプとしてインジウムを組み込むことで、さまざまなスパッタリングシステムにおける性能と互換性がさらに向上します。
ゲルマニウム アンチモン セレン テルル スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイス製造:マイクロエレクトロニクス部品の薄膜成膜に最適。
- 光学コーティング:レンズやミラー用の高品質光学コーティングの製造に使用される。
- メモリー・ストレージ・デバイス高度なメモリー・アプリケーションの製造プロセスを促進する。
- 研究開発:材料科学研究所の実験セットアップに適している。
- カスタム産業アプリケーション:様々な産業分野における特殊なスパッタリング要件に適応可能です。
ゲルマニウム アンチモン セレン テルル スパッタリング ターゲット パッキング
当社のゲルマニウムアンチモンセレンテルルスパッタリングターゲットは、保管および輸送中の製品の完全性を保証するため、厳格な品質管理措置の下で梱包されています。通常、真空密封パッケージで提供されますが、製品の原始的な状態を維持するために、お客様の仕様に合わせたパッケージングオプションも可能です。
よくある質問
Q: ゲルマニウム・アンチモン・セレン・テルル・スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、光学コーティング、メモリー・ストレージ・デバイスの薄膜蒸着に使用されます。
Q: スパッタリングターゲットの純度はどのように保たれていますか?
A: ターゲットは99%以上の純度で製造されており、高度な蒸着プロセスにおいて安定した性能を発揮します。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズ可能ですか?
A: はい、ターゲットは円盤状で入手可能であり、特定の要件に合わせて特注することもできます。
Q: インジウムはこのスパッタリングターゲットでどのような役割を果たしていますか?
A: インジウムは、様々なスパッタリングシステムでの互換性と性能を高めるために、ボンディングタイプとして使用されています。
Q: 品質保持のための保管方法を教えてください。
A: ターゲットは、汚染から保護し、最適な性能を確保するために、管理された真空密封パッケージで保管する必要があります。