マンガン-酸化鉄スパッタリングターゲット 説明
マンガン-酸化鉄スパッタリングターゲット、MnFe2O4は、高純度(99%以上)で設計されており、ディスクまたはカスタムメイドの形状を含むカスタマイズ可能な形状でご利用いただけます。精密なスパッタリング用途向けに設計されたこのターゲットは、高温(>300 °C)でも安定した性能を発揮し、さまざまな工業用コーティングや電子加工プロセス向けの堅牢なソリューションであることが証明されています。
マンガン-酸化鉄スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造集積回路やディスプレイ技術の薄膜成膜に使用。
- コーティングプロセス高い耐久性と化学的安定性を必要とする表面コーティング用途に最適。
- 先端エレクトロニクス:高純度で精密な成膜を必要とする配合に適しています。
- 研究開発:新しい材料やスパッタリングプロセスを開発するための実験セットアップに使用されます。
マンガン-酸化鉄スパッタリングターゲットパッキング
当社のマンガン-酸化鉄スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中に最適な状態を維持するためにしっかりと梱包されています。 梱包オプションには、ディスク用の保護梱包のほか、お客様のご要望に応じてカスタマイズされたソリューションがあります。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットは何に使用されますか?
A: スパッタリングターゲットは、半導体、ディスプレイ、コーティングなどの用途で基板上に薄膜を形成する物理蒸着プロセスで使用されます。
Q: スパッタリングターゲットの純度はどのように確認されますか?
A: 質量分析や蛍光X線分析などの高度な分析方法を用いて純度を確認し、要求される厳しい基準を満たしていることを確認しています。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、スパッタリングターゲットはカスタムメイドが可能で、特定の設計や機能要件に柔軟に対応できます。
Q: このスパッタリングターゲットはどのくらいの動作温度に耐えられますか?
A: この製品は300℃以上の温度で動作するように設計されており、高温アプリケーションでの安定した性能を保証します。
Q: 他のスパッタリングターゲットとの違いは何ですか?
A: 当社の製品は優れた純度と性能を備えており、高度な工業用途、研究開発、精密なコーティングプロセスに最適です。