ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲットの説明
ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲット、KNaNb2O6は、最新の薄膜蒸着およびスパッタリングアプリケーションの高い要求を満たすように設計されています。KNaNb₂O₆の組成と99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、ディスクとして入手可能で、特殊な産業ニーズに合わせて特注することもできます。信頼性の高いインジウム結合を特徴とする本製品は、スパッタリングシステムにおける安定性と最適な性能を確保するよう設計されている。その高度な材料特性により、精密電子、センサー、光電池の用途に理想的なソリューションとなっています。
ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体、光電池、電子デバイスの高品質膜形成に不可欠です。
- センサー技術:材料の均一性が重要な高感度デバイスの製造に利用される。
- 表面技術:工業部品の高精度コーティング技術を可能にする。
- 研究開発:材料科学や工学研究の実験セットアップに最適です。
ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲットパッキング
各ニオブ酸カリウムナトリウムスパッタリングターゲットは、輸送中の完全性を保護するために細心の注意を払って梱包されています。 特定の生産および取り扱い要件を満たすために、カスタマイズされた梱包オプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q: ニオブ酸ナトリウムスパッタリングターゲットを使用する主な利点は何ですか?
A: カスタマイズ可能な形状と信頼性の高いインジウム結合を持つ高純度組成(99%以上)を提供し、薄膜蒸着における安定した性能を保証します。
Q: カスタムサイズのスパッタリングターゲットは入手できますか?
A: はい、様々なアプリケーション要件に対応するため、カスタマイズされたサイズでのご提供が可能です。具体的な寸法については、弊社サポートチームまでお問い合わせください。
Q: インジウムボンドはターゲットの性能をどのように向上させますか?
A: インジウムボンドの優れた熱伝導性と密着性は、スパッタリングプロセス中にターゲットの均一な性能を維持するために非常に重要です。
Q: このスパッタリングターゲットは電子用途に適していますか?
A: もちろんです。高純度組成と安定した性能により、電子デバイス、センサー、その他の精密用途に最適です。
Q: 設置や使用に関する技術サポートはありますか?
A: 当社の専任のテクニカルサポートチームとカスタマーサポートチームが、設置、性能の最適化、カスタマイズに関するお問い合わせに対応いたします。