タンタル酸カリウム スパッタリング ターゲット 説明
タンタル酸カリウムスパッタリングターゲット、KTaO₃は、純度99%以上で製造されており、特定のアプリケーション要件を満たすためにディスクまたはカスタムメイドの形状でご利用いただけます。高度なスパッタリング用途向けに設計されたこのターゲットは、様々な基板への高品質薄膜成膜において安定した性能を発揮します。半導体デバイス、オプトエレクトロニクス、誘電体用途に最適で、厳しい処理条件下でも信頼性を確保します。
タンタル酸カリウムスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体製造における誘電体および強誘電体薄膜の形成に最適です。
- 半導体デバイス高い信頼性が要求される電子部品の製造に利用される。
- 光電子部品:優れた材料特性により、センサーや光デバイスの用途に適している。
- 研究開発:材料科学や先端材料研究の実験セットアップに最適です。
タンタル酸カリウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のタンタル酸カリウムスパッタリングターゲットは、輸送および保管中に汚染されず無傷であることを保証するために、厳格な品質管理ガイドラインの下で梱包されています。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能であり、研究用途および産業用途の両方において安全な配送をお約束します。
よくある質問
Q: タンタル酸カリウム(KTaO₃)がスパッタリング用途に適している理由は何ですか?
A: 高純度(99%以上)で化学的性質が安定しているため、スパッタリング性能が安定し、均一な薄膜蒸着が可能です。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準ディスクとしてご利用いただけますが、お客様のご要望に応じてカスタムメイドすることも可能です。
Q: 一般的にどのような産業でタンタル酸カリウム・スパッタリングターゲットが使用されていますか?
A: 半導体製造、オプトエレクトロニクス、および先端材料アプリケーションに焦点を当てた研究所で広く使用されています。
Q: 純度レベルはスパッタリングターゲットの性能にどのように影響しますか?
A: 純度が高いほど(99%以上)コンタミネーションを最小限に抑えることができるため、蒸着膜の品質、一貫性、全体的な性能が向上します。
Q: スパッタリングターゲットの保管や取り扱いに関する推奨事項はありますか?
A: ターゲットは、温度管理された清潔で乾燥した環境で保管し、汚染や損傷を避けるために取り扱いに注意することをお勧めします。