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Stanford Advanced Materials
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  • ST1000 硫化ニッケルスパッタリングターゲット、NiS

    • ST1000 硫化ニッケルスパッタリングターゲット、NiS

    カタログ番号 ST1000
    構成 ニッケル
    CAS番号 16812-54-7
    純度 ≥99%
    形状 ディスク、オーダーメイド

    硫化ニッケルスパッタリングターゲット、NiSは、高度な薄膜蒸着用に設計された高品質のスパッタリングターゲットで、正確で信頼性の高い性能を保証します。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズは、革新的なアプローチと材料科学における卓越性へのコミットメントで有名であり、一貫して現代産業の厳しい要求を満たす製品を提供しています。

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    ST0001 アルミニウム（Al）スパッタリングターゲット
    ST0003 バリウム（Ba）スパッタリングターゲット
    ST0005 ホウ素（B）スパッタリングターゲット
    ST0006 カドミウム（Cd）スパッタリングターゲット
    ST0007 カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット
    ST0008 セリウム（Ce）スパッタリングターゲット
    ST0009 クロム（Cr）スパッタリングターゲット
    ST0010 コバルト（Co）スパッタリングターゲット
    ST0011 銅（Cu）スパッタリングターゲット

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