酸化マンガン スパッタリング ターゲット 説明
酸化マンガンスパッタリング用ターゲットMn2O3は、高性能スパッタリング用途向けに設計されており、卓越した純度と一貫性を提供します。厳格な品質管理の下で製造されたこのターゲットは、様々なハイテク用途で優れた密着性と耐久性を持つ薄膜の開発に最適です。最適化された物理的特性により、高度な電子、光学、コーティングプロセスにおいて信頼性の高い選択肢となります。
酸化マンガンスパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体、ディスプレイ、光学用途の高品質膜作製に最適。
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクス部品や集積回路の製造に使用される。
- 太陽電池:エネルギー効率の高い光起電力デバイスの開発に利用されている。
- 先端コーティング:産業用工具や機械の耐摩耗性・耐腐食性コーティングの製造に適している。
酸化マンガンスパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化マンガンスパッタリングターゲットは、その完全性と性能を維持するために慎重に梱包されています。パッケージングオプションには、特定のスパッタリングシステムの要件を満たすためのカスタマイズされたディスクフォーマットが含まれます。すべての製品は、保管および輸送中の最適な保存を保証するために、しっかりと真空密封されています。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットの組成は?
A: スパッタリングターゲットは純度99%以上のMn2O3から構成されています。
Q: このターゲットに使用されているMn2O3のCAS番号は何ですか?
A: CAS番号は1317-34-6です。
Q: ターゲットの形状やサイズにオプションはありますか?
A: はい、ターゲットはディスクで入手可能です。
Q: このターゲットの融点1080℃の意味は何ですか?
A: 1080℃という融点は、材料が状態変化する温度を示しており、高温用途での加工やスパッタリング効率にとって非常に重要です。
Q: 輸送中の品質を保証するために、製品はどのように梱包されていますか?
A: 製品は真空密封され、カスタマイズされた仕様に従って梱包され、保管および輸送中もその完全性と最適な性能が維持されるようになっています。