説明
ニッケル(Ni)蒸着材料は 、その卓越した特性により、薄膜蒸着プロセスに不可欠です。高純度で制御された蒸発速度により、基板上への正確な成膜を保証し、均一で欠陥のない膜形成を促進します。これらの材料は卓越した熱安定性を示し、蒸着中の高温にも劣化することなく耐える。各種基板との密着性に優れ、成膜膜の耐久性と完全性を保証します。ニッケル蒸着材料は 、半導体デバイス、冶金用途、装飾用コーティングに広く利用されており、薄膜技術の進歩に大きく貢献しています。多用途で信頼性が高く、精密な成膜を必要とする産業で重要な役割を果たし、安定した性能を提供し、技術革新を可能にします。

仕様
材質
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ニッケル
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外観
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光沢、メタリック、銀色味
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融点 (°C)
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1,453
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熱伝導率
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91 W/m.K
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熱膨張係数
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13.4 x 10-6/K
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理論密度 (g/cc)
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8.91
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用途
1.半導体デバイス:集積回路、太陽電池、光電子デバイスなどの金属層、電極、接続ワイヤーの材料として使用される。
2.金属製錬:耐食合金、高強度鋼、ステンレス鋼などの合金の成分として使用される。
3.コーティングおよび被覆:耐食コーティング、装飾コーティング、導電性コーティングの調製用。
4.材料研究:ニッケルベースの材料の構造、特性、用途を研究し、材料科学の発展を促進するための実験材料および参照標準として使用される。
5.化学反応:触媒の成分として、有機合成、気相触媒、化学反応などのプロセスに使用される。
包装
当社の蒸発材料は、保管中や輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質をそのままの状態で維持するため、慎重に取り扱われている。
仕様
材質
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ニッケル
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外観
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光沢、メタリック、銀色がかった色調
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融点 (°C)
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1,453
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熱伝導率
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91 W/m.K
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熱膨張係数
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13.4 x 10-6/K
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理論密度 (g/cc)
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8.91
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*上記の製品情報は理論値に基づくもので、参考用です。実際の仕様は異なる場合があります。