タンタルスパッタリングターゲット, Ta｜スタンフォードアドバンストマテリアルズ

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ST0048 タンタル・スパッタリング・ターゲット（Taスパッタリング・ターゲット）

カタログ番号	ST0048
素材	R05200; R05400
スタンダード	ASTM B708-2001
純度	≥99.95%, 99.99%9, 99.999%
MSDS / SDS	MSDS/SDSダウンロード

タンタルスパッタリングターゲットは、半導体、エレクトロニクス、光学コーティングなどの用途の薄膜蒸着プロセスで使用される高純度材料です。

その他のタンタル製品：タンタル箔/タンタルストリップ、タンタルシート/タンタルプレート、タンタルチューブ/タンタルパイプ、タンタルワイヤーなど。

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仕様

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タンタルスパッタリングターゲットの説明

スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）は、高品質のタンタル・スパッタリング・ターゲットを提供することで有名です。これらの入念に作られたターゲットは、非常に純粋なタンタルから作られており、一貫した信頼性の高い組成を保証します。この材料の優れた密度はスパッタリング効率を高め、膜の密着性を向上させます。タンタルの卓越した熱安定性により、ターゲットはスパッタリング中の極端な加熱に耐えることができ、さまざまな高温プロセスに適しています。さらに、この材料の卓越した耐食性により、最も困難なスパッタリング条件下でもターゲットの完全性が維持されます。タンタル中の不純物やガス含有量が少ないため、優れた膜質と均一性が得られます。さらに、この材料は機械加工が容易であるため、特定のアプリケーションのニーズに応じて正確に成形することができます。これらの卓越した特性のおかげで、タンタルスパッタリング・ターゲットは、エレクトロニクス、光学、薄膜太陽エネルギー、磁気ストレージなど、さまざまな産業でタンタル膜を成膜するための材料として選ばれるようになりました。その適応性と信頼性により、多くのスパッタリング成膜プロセスにおいて不可欠なコンポーネントとなっています。

ta planar target ta revolving target

タンタルターゲット仕様

品番	材質	サイズ	純度
TA0201	タンタル	1.00インチ径 x 0.125インチ厚	99.95%
TA0202	タンタル	1.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0203	タンタル	2.00"直径 x 0.125インチ厚	99.95%
TA0204	タンタル	2.00"直径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0205	タンタル	3.00"直径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0206	タンタル	3.00"直径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0207	タンタル	4.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0208	タンタル	4.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0209	タンタル	5.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0210	タンタル	5.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%

オーダーメイドのソリューションが必要ですか？お問い合わせください。

高品質のタンタルディスクも提供しております。

参考情報
化学組成

元素	R05200 (%,Max)	R05400 (%,Max)
C	0.01	0.01
O	0.015	0.03
N	0.01	0.01
H	0.0015	0.0015
鉄	0.01	0.01
Mo	0.02	0.02
Nb	0.1	0.1
Ni	0.01	0.01
Si	0.005	0.005
Ti	0.01	0.01
W	0.05	0.05

タンタルおよびタンタル合金

R05200、非合金タンタル、電子ビーム炉または真空アーク溶融炉、またはその両方
R05400、非合金タンタル、粉末冶金圧密法
R05255、タンタル合金、90％タンタル、10％タングステン、真空アーク溶解の電子ビーム炉、またはその両方
R05252、タンタル合金、97.5%タンタル、2.5%タングステン、電子ビーム炉または真空アーク溶融、またはその両方。
R05240、タンタル合金、タンタル60%、ニオブ40%、電子ビーム炉または真空アーク溶解。

タンタル・スパッタリング・ターゲットの用途

1.エレクトロニクス：タンタルスパッタリングターゲットは、集積回路、コンデンサ、その他のマイクロエレクトロニックコンポーネントのタンタル膜成膜用として、エレクトロニクス産業で広く使用されている。タンタルの高純度と耐食性は、これらの用途に理想的な材料です。

2.光学：タンタルスパッタリングターゲットは、レンズやミラーなどの光学部品にタンタル膜を成膜する光学産業にも使用されています。タンタルの高い透明度と硬度は、この用途に適しています。

3.薄膜太陽エネルギー：タンタル・スパッタリング・ターゲットは、薄膜太陽電池の製造に使用される。太陽電池にタンタル膜を成膜することで、太陽電池の効率と信頼性が向上します。

4.磁気ストレージ：磁気ストレージ業界では、タンタルスパッタリングターゲットは、磁気ディスクや磁気テープにタンタル膜を蒸着するために使用され、耐久性と性能を向上させます。

5.装飾コーティング：タンタルの魅力的な外観により、タンタルスパッタリングターゲットは、宝石や時計などの様々な消費者製品の装飾コーティングの製造にも使用されています。

タンタルスパッタリングターゲット包装

当社のタンタルスパッタリングターゲットは、製品の品質を元の状態で維持するために、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。

製品安全データシート（MSDS）をご参照ください！

タンタルスパッタリングターゲットに関するFAQ

タンタルスパッタリングターゲットはバッキングプレートに接着できますか？

はい、タンタルスパッタリングターゲットは、インジウムまたはエラストマーボンディング法を使用して銅バッキングプレートにボンディングすることができます。

タンタル・スパッタリング・ターゲットに特別な保管条件や取り扱い条件はありますか？

タンタル・スパッタリング・ターゲットは、表面汚染を防ぐため、清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。

タンタルターゲットに推奨されるスパッタリング方法は何ですか？

DCマグネトロンスパッタリングは、タンタル膜の成膜に最も一般的に使用される方法です。

仕様

品番	材質	サイズ	純度
TA0201	タンタル	1.00インチ径 x 0.125インチ厚	99.95%
TA0202	タンタル	1.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0203	タンタル	2.00"直径 x 0.125インチ厚	99.95%
TA0204	タンタル	2.00"直径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0205	タンタル	3.00"直径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0206	タンタル	3.00"直径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0207	タンタル	4.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0208	タンタル	4.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0209	タンタル	5.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%
TA0210	タンタル	5.00インチ径 x 0.250インチ厚	99.95%