ケイ酸塩ガラスの説明
シリケートガラスは、高い紫外線カットと赤外線カットの能力を持っています。高繰り返し高エネルギーレーザーシステムにおいて、1ミクロンや不要な紫外線や赤外線を吸収するレーザーキャビティ材料として使用することができます。
シリケートガラス仕様
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紫外線カットオフ(透過率5mm,2%) (nm)
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350
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IRカットオフ (nm)
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2500
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屈折率 (d 589.3nm)
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1.563
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屈折率 (1053nm)
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1.57
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アッベ値
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56.6
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変態温度
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490
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軟化温度
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540
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線熱膨張係数 (10-7/K) (30~100℃)
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87
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線膨張係数 (10-7 /K) (30~300℃)
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100
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熱伝導率 (25℃) (W/mK)
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1.1
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密度 (g/cm3)
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2.87
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Dw(H2O98℃) (mg/(cm2/day))
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0.109
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ケイ酸塩ガラスの用途
ケイ酸塩ガラスは、高繰り返し高エネルギーレーザーシステムにおいて、1ミクロンおよび不要な紫外線や赤外線を吸収するレーザー共振器材料として使用することができます。
シリケートガラスの包装
当社のシリケートガラスは 、製品の品質を元の状態で維持するために、保管中および輸送中に注意深く取り扱われます。
仕様
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UVカットオフ(5mm,2%透過) (nm)
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350
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IRカットオフ (nm)
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2500
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屈折率 (d 589.3nm)
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1.563
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屈折率 (1053nm)
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1.57
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アッベ値
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56.6
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変態温度
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490
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軟化温度
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540
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線熱膨張係数 (10-7/K) (30~100℃)
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87
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線膨張係数 (10-7 /K) (30~300℃)
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100
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熱伝導率 (25℃) (W/mK)
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1.1
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密度 (g/cm3)
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2.87
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Dw(H2O98℃) (mg/(cm2/day))
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0.109
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*上記の製品情報は理論値に基づくもので、参考用です。実際の仕様は異なる場合があります。