窒化ケイ素蒸着材料の説明
窒化ケイ素(Si3N4)蒸着材料は、その卓越した特性の組み合わせにより、様々な薄膜蒸着用途で高い汎用性を発揮します。卓越した機械的強度、熱安定性、電気絶縁特性で知られるSi3N4コーティングは、摩耗、腐食、高温に対する強固な保護を提供します。さらに、その優れた化学的不活性と生体適合性により、生物医学インプラントや環境用途での使用に適しています。さらに、Si3N4薄膜は良好な光学特性と誘電特性を示し、光学コーティング、半導体製造、電子デバイスへの利用を可能にしている。全体として、窒化ケイ素(Si3N4)蒸着材料は 、様々な用途で性能、信頼性、耐久性を向上させるソリューションを提供し、広範な産業で技術を進歩させる上で重要な役割を果たしています。
窒化ケイ素蒸着材料の仕様
仕様 |
価格 |
材料タイプ |
窒化ケイ素 (Si₃N₄) |
記号 |
Si₃N₄ |
外観/色 |
灰色固体 |
融点 |
約 1,900°C (3,452°F; 2,173 K) |
密度 |
3.44 g/cm³ |
純度 |
99.9% |
形状 |
ペレット/顆粒 |
窒化ケイ素蒸着材料用途
保護コーティング:Si3N4薄膜は、切削工具、航空宇宙部品、生物医学インプラントを含む様々な表面の保護膜として利用され、耐摩耗性、耐腐食性、高温耐性に優れています。
2.半導体製造:Si3N4は半導体デバイスの絶縁材料およびパッシベーション層として使用され、その高い絶縁耐力と熱安定性は集積回路の性能と信頼性に貢献している。
3.セラミック工学:Si3N4は、その卓越した機械的特性と耐熱衝撃性により、航空宇宙、自動車、医療用途で使用される高性能構造セラミックやセラミック複合材を含む先端セラミックの製造における主要成分である。
4.バイオメディカルインプラント:Si3N4は、その生体適合性、化学的不活性、および機械的強度により、人体への長期埋め込みに適しているため、歯科インプラントや整形外科用人工器官などの生物医学インプラントに使用されています。
5.環境用途:Si3N4は、ろ過膜や触媒コンバーターなどの環境用途に使用されており、その化学的不活性と熱安定性により、大気中や水中の汚染物質の効率的なろ過と変換が可能である。
6.光学コーティング:Si3N4薄膜は、レンズ、ミラー、その他の光学部品の光学コーティングに応用され、その高い屈折率と低い光吸収は、光学システムの性能と耐久性の向上に貢献している。
7.エレクトロニクスとセンサー:Si3N4は、その優れた電気絶縁特性、熱安定性、微細加工プロセスとの適合性から、電子デバイスやセンサーに利用され、その開発を可能にしている。
窒化ケイ素蒸着材料パッケージング
窒化ケイ素蒸発材料の品質と完全性を保証するために、当社は特殊な包装方法を採用しています。お客様のニーズやお好みに合わせて、様々な包装オプションをご用意しております。