窒化ホウ素セラミック BNSIO 説明
窒化ホウ素セラミックBNSIOは、熱的に優れた材料です。また、低い誘電率k（<4）と共に高い絶縁耐力（>40KV/mm）という優れた電気的特性も備えています。そのため、GHz帯のマイクロ波環境に適しています。シリカ（SiO2）バインダーシステムは、優れた耐湿性と耐熱衝撃性に寄与しています。窒化ホウ素セラミックBNSIOは1400℃まで動作可能です。
窒化ホウ素セラミックBNSIOの仕様
PBN 機械的特性
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項目
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単位
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材質
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hBN、SiO2
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色
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白色
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密度
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2.1-2.3g/cm3
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サイズ
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カスタマイズ
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窒化ホウ素セラミック BNSIO アプリケーション
1.高温絶縁：高温で動作するデバイスの電気絶縁に使用され、優れた熱安定性と電気絶縁性を提供します。
2.半導体製造：高温安定性と耐薬品性が重要な半導体加工装置に使用される。
3.熱管理：高い熱伝導率と熱応力への対応能力を活かし、ヒートスプレッダーやサーマルインターフェース材料に採用。
4.先端セラミック：機械的強度と耐摩耗性、耐腐食性を活かし、航空宇宙、防衛、産業用途の先端セラミック部品に使用。
5.化学処理：化学的不活性と耐高温性により、腐食性の強い化学薬品にさらされる部品に適している。
6.原子力用途：放射線や高温への耐性が求められる原子炉部品に使用される。
窒化ホウ素セラミックBNSIO パッケージング
私たちの窒化ホウ素セラミックBNSIOは、元の状態で製品の品質を維持するために、保管中や輸送中に慎重に扱われます。
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