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分別蒸留:空気から希ガスを抽出する方法

あなたが今吸った空気には、約0.93%のアルゴン、0.0005%のネオン、0.000008%のキセノンが含まれていた。

これらは単なる微量元素ではない。コンピュータ・チップをエッチングするレーザーから、医療用スキャンで人間の臓器を照らす画像処理剤に至るまで、これらは現代技術の目に見えない実現装置なのだ。しかし、レアガスを捕獲するには、工業工学の中で最もエネルギー集約的な分離プロセスのひとつである分別蒸留が必要である。

この記事では、レアガスがどのように抽出されるのか、そしてなぜレアガスが重要なのかを説明する。

Composition of Air

1.レアガスとは何か?

希ガスは希ガスとも呼ばれ、周期律表の第18族を占めている。希ガスは無色、無臭で、ほとんどの条件下で化学的に不活性である。その性質から化学には役に立たないが、物理学には不可欠である。

ヘリウム(He):2番目に軽い元素。沸点は-269℃。大気中ではなく天然ガス中に存在する。MRIの冷却、漏洩検知、クロマトグラフィーのキャリアガスとして使用される。

ネオン(Ne):沸点:-246℃。空気中の濃度:18ppm。帯電すると橙赤色に光る。ネオンサイン、高電圧インジケーター、半導体リソグラフィー用エキシマレーザーに使用される。

アルゴン(Ar):空気中に最も多く含まれる希ガス(0.93%)。沸点:-186℃。チタンやアルミニウムの溶接用シールドガス、チタンやシリコンの製造用ブランケットガスとして使用される。

クリプトン(Kr):沸点:-153℃。空気中の濃度:1ppm。エネルギー効率の高い窓(窓ガラスと窓ガラスの隙間を埋める)、高性能照明、レーザー核融合研究に使用される。

キセノン(Xe):沸点:-108℃。空気中濃度:0.087ppm。最も重い非放射性希ガス。麻酔薬、人工衛星のイオンスラスター、高速度撮影用フラッシュランプなどに使用される。

2.分留による抽出:その仕組み

原理

分別蒸留は沸点の違いを利用する。液体の空気をゆっくりと温め、各成分が沸点に達すると気化し、別々に回収される。このプロセスは概念的には単純だが、操作的には複雑である。

ステップごとのプロセス

ステップ1:空気の圧縮と浄化

大気中の空気を約5~10気圧に圧縮する。水蒸気、炭酸ガス、炭化水素は除去されるが、後工程で凍結すると装置を塞いでしまう。

ステップ2:冷却と液化

圧縮空気は、連続した熱交換器を通して冷却され、バルブを通して膨張し(ジュール・トムソン効果)、液化温度に到達します。その結果、約-192℃の液体空気が得られる。

ステップ3:ダブルカラムでの蒸留

液体空気は高圧蒸留塔(5~6バールで運転)の底部に入る。窒素(上)と酸素を多く含む液体(下)に分離する。酸素を多く含む液体は、さらに分離するために低圧カラム(1.3 bar)に供給される。

ステップ4:クリプトン・キセノン濃縮

クリプトンとキセノンは酸素よりも沸点が高いため、低圧カラムの酸素ストリームに蓄積する。クリプトンとキセノンを多く含むサイドストリームが引き抜かれ、専用の濃縮カラムに送られる。

ステップ5:さらなる精製

濃縮液は、炭化水素を除去するために触媒変換にかけられる。これは安全のためであり、液体酸素を含む炭化水素は爆発する可能性があるからである。その後、最終蒸留を行い、クリプトンとキセノンを分離する。最新のシステムでは99.9995%以上の純度を達成している。

3.代替抽出方法

工業的には低温蒸留が主流であるが、特殊な用途には他の方法もある。

吸着

ゼオライトや有機金属骨格(MOF)は、室温でキセノンやクリプトンを選択的に吸着することができる。例えば活性炭は、大気圧で約54重量%のキセノン取り込みを示す。課題は、蒸留に比べて製品の純度が低く、吸着剤を再生するために圧力または熱スイングが必要なことである。

膜分離

高分子膜は、分子サイズと透過性に基づいてガスを分離することができる。レアガスの場合、選択性が制限要因となる。酸素を容易に透過する膜はクリプトンも透過する可能性があり、高純度分離を困難にする。

ガスハイドレートの形成

高圧・低温下では、水はガス分子を捕捉する氷のようなカゴを形成する。キセノンはクリプトンやアルゴンよりも容易にハイドレートを形成し、選択的分離を可能にする。研究によれば、従来の蒸留と比較して30~35%のエネルギー削減の可能性があるが、この技術はまだ発展途上である。

4.ガス別用途

Rare gases applications

ヘリウム

  • MRIマグネット: 液体ヘリウムは超伝導マグネットを4ケルビン(-269℃)まで冷却する。典型的なMRIシステムには1,500~2,000リットルの液体ヘリウムが使われている。
  • 半導体製造: ヘリウムは結晶成長に不活性雰囲気を提供し、蒸着プロセスではキャリアガスとして働く。
  • 漏洩検知: ヘリウムは分子サイズが小さいため、真空システムの標準的なトレーサーガスとなっている。

ネオン

  • エキシマレーザー: ネオンは、半導体リソグラフィー用の深紫外光を発生させる混合ガスの一部です。これらのレーザーは、ナノメートル単位で測定される特徴をエッチングする。
  • ネオンサイン: 古典的なオレンジ色と赤色の輝きは、ネオン放電によるものです。
  • 極低温冷凍: ネオンは沸点が低いため、30~40ケルビンに達する密閉サイクル冷凍機で重宝されている。

アルゴン

  • 溶接: アルゴンは、チタン、アルミニウム、ステンレス鋼の溶接部を大気汚染から保護する。
  • チタンとシリコンの製造: 両金属は高温で酸素と窒素と反応します。アルゴンは処理中、不活性ブランケットを提供する。
  • 二重窓: アルゴンは窓ガラスの隙間を埋め、空気よりも熱の伝わりを抑えます。

クリプトン

  • エネルギー効率の高い窓: クリプトンはアルゴンよりも熱伝導率が低いため、同じ断熱性能でより薄い窓ユニットが可能。
  • 高輝度照明: クリプトンを充填した白熱電球は、アルゴンを充填したものより高温で明るく動作する。
  • レーザー核融合: クリプトン・フッ化物レーザーは、慣性閉じ込め核融合研究の候補である。

キセノン

  • 医療用麻酔: キセノンは理想的な麻酔薬である。限界はコストである。
  • 人工衛星の推進力: 重くてイオン化しやすく、化学的に不活性であるため、イオンスラスターにキセノンが使用される。
  • 医用画像診断: キセノン同位体は、CT肺画像診断の造影剤として使用されている。
  • 半導体製造: キセノンはイオン注入と深紫外線リソグラフィーに使用されている。

5.希ガス応用材料

レアガスを使用する技術では、レアガスを含む金属からレアガスと相互作用する部品に至るまで、特殊な材料が必要とされることがよくあります。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、これらの用途向けに高純度材料を提供しています:

半導体製造用

医療・イメージング用

照明・ディスプレイ用

  • 特殊照明用蛍光体材料
  • ディスプレイコーティング用蒸着材料
  • 電極製造用高純度金属

航空宇宙・推進用

研究開発用

  • 様々な形態の高純度元素 (粉末、ワイヤー、箔、ロッド)
  • 実験用合金および化合物
  • 先端研究用ナノ材料

すべての材料は、分析証明書と完全なトレーサビリティ付きで入手可能です。

6.よくある質問純度と取り扱い

Q: なぜこのような用途で純度が重要なのですか?
A: 半導体製造では、微量の不純物が製造バッチ全体を台無しにする可能性があります。医療用途では、純度が患者の安全に影響します。研究においては、再現性は既知の組成に依存します。

Q: 材料にはどのような形態がありますか?
A: SAMは、粉末、ワイヤー、プレート、箔、ロッド、スパッタリングターゲット、およびアプリケーションの要件に応じたカスタム形状など、様々な形状の材料を提供しています。

Q: カスタム仕様は可能ですか?
A: はい。少量の研究開発用から大量生産用まで、特定の純度、形状、包装の要件を満たすためにお客様と協力しています。

Q: 材料にはどのような書類が添付されますか?
A: 各出荷には分析証明書が含まれます。バッチ固有のトレーサビリティは、品質監査と規制遵守のために維持されます。

スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)について

スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、世界中の航空宇宙、医療、半導体、研究産業向けに10,000種類以上の先端材料を供給しています。1994年に設立され、カリフォルニア州サンタアナに本社を置く当社は、高純度の金属、合金、セラミック、スパッタリングターゲット、希土類材料を、研究開発用の量から本格的な生産まで、さまざまな形態で提供しています。米国、カナダ、ヨーロッパ、アジア太平洋に倉庫を持ち、どこでも確実にお届けします。

参考文献

Häussinger, P., Glatthaar, R., Rhode, W., et al.希ガス。Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry.Wiley-VCH.

Kerry, F.G. (2007).工業ガスハンドブック:ガス分離と精製。CRC Press.

Smith, A.R., & Klosek, J. (2001).空気分離技術とエネルギー変換プロセスとの統合のレビュー。Fuel Processing Technology, 70(2), 115-134.

Thallam Thattai, A., et al.キセノン回収のためのガスハイドレート形成の実験的検討。Chemical Engineering Journal, 302, 74-82.

Banerjee, R., et al.キセノンおよびクリプトン分離のための有機金属骨格。Science, 319(5865), 939-943.

Baker, R.W. (2002).膜ガス分離技術の今後の方向性。Industrial & Engineering Chemistry Research, 41(6), 1393-1411.

U.S. Geological Survey.(2023).鉱物商品サマリー:ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン。

著者について

Dr. Samuel R. Matthews

サミュエル・R・マシューズ博士はスタンフォード・アドバンスト・マテリアルズの最高材料責任者。材料科学と工学の分野で20年以上の経験を持ち、同社のグローバル材料戦略をリード。高性能複合材料、持続可能性を重視した材料、ライフサイクル全般にわたる材料ソリューションなど、幅広い専門知識を有する。

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