CVDグラフェン用銅箔の説明
CVDグラフェン用銅箔は、基材として圧延銅箔を用い、化学気相成長法(CVD)を用いている。高温触媒作用により、圧延銅箔の表面にグラフェン膜が形成される。このグラフェン膜は、現在までに発見されたナノ材料の中で最も薄く、化学的に安定であり、高い強度、透明性、キャリア移動度、熱伝導性を備えている。電子デバイス、透明電極材料、エネルギー貯蔵材料、機能性複合材料など、さまざまな技術分野での応用が期待されている。
CVDグラフェン用銅箔仕様
| サイズ | 10*20cm、またはカスタマイズ | 
| 厚さ | 50μm、またはカスタマイズ | 
| 材質 | 銅、グラフェン | 
| 形状 | 箔 | 
| 純度 | 99.99% | 
| 研磨 | 両面研磨 | 
物理的特性
| 熱伝導率 [(W/(m-K)) | > 780 | 
| 熱拡散率 (mm²/s) | >170 | 
| 密度 (g/m3) | 8.4 | 
| 比熱 (50° J/(kg-K)) | 540 | 
| 熱変形温度 (°C) | 200 | 
| 引張強さ (MPa) | >385 | 
| 粘着力(ASTM) | >4B | 
| 導電率(S/m) | 10-5 | 
CVDグラフェン用銅箔
- 電子デバイス:先端電子デバイスへの幅広い応用が期待される。
- 透明電極材料:透明電極の開発において重要な役割を果たす。
- エネルギー貯蔵材料:革新的なエネルギー貯蔵ソリューションへの応用
- 機能性複合材料:機能性複合材料における多様な用途。
CVDグラフェン用銅箔 パッケージング 
当社のCVDグラフェン用銅箔は、製品の品質を元の状態で維持するため、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。
             
            
            
                仕様
                
| サイズ | 10*20cm、またはカスタマイズされる | 
| 厚さ | 50μm、またはカスタマイズ | 
| 材料 | 銅、グラフェン | 
| 形状 | 箔 | 
| 純度 | 99.99% | 
| 研磨 | 両面研磨 | 
物理的性質
| 熱伝導率 [(W/(m-K)) | > 780 | 
| 熱拡散率 (mm²/s) | >170 | 
| 密度(g/m3) | 8.4 | 
| 比熱 (50° J/(kg-K)) | 540 | 
| 熱変形温度 (°C) | 200 | 
| 引張強さ (MPa) | >385 | 
| 粘着力(ASTM) | >4B | 
| 導電率(S/m) | 10-5 | 
*上記の製品情報は理論値に基づくもので、参考用です。実際の仕様は異なる場合があります。