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カタログ番号 | IF5693 |
商品番号 | OTF-1200X-II |
動作温度 | ≤ 1200℃ |
1200℃3ゾーン管状炉(チューブ&フランジ付)は、温度勾配を制御しながら様々な材料の単結晶を成長させるための特殊な装置です。Stanford Advanced Materials 社(SAM)は、高品質の1200C 3ゾーン管状炉(チューブ&フランジ付)を製造・供給する豊富な経験を持っています。
関連製品1500℃コンパクト水素ガス管状炉 GSL-1500X-50HG、1200℃ハイブリッドマッフル管状炉 KSL-1200X-J-H、HPCVD用内部移動機構付1200℃管状炉
1200C 3ゾーン管状炉、管とフランジ付き石英管(60、80、100 mmから選択)とフランジを装備した長さ18インチ(6インチ+6インチ+6インチ)の分割可能なコンパクトな3ゾーン管状炉。Kタイプ熱電対を装備した30セグメント温度制御器3台を装備。マイクロプロセッサーによるセルフチューニングPIDにより、オーバーシュートのない±1℃精度の優れた制御が可能です。1200℃までの各種ガス雰囲気下での試料アニール、拡散、焼結に最適な炉です。
特徴 |
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使用温度 |
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使用電圧 |
AC 220V 50Hz |
パワー |
3KW |
部屋システム |
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溶融石英管 |
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真空フランジとゲージ |
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温度制御 |
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真空ポンプ |
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保証期間 |
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装置寸法 |
1270mm L*400mm W* 540mm H(閉じた状態) 1270mm L*560mm W* 750mm H (開いた状態) |
重量 |
40kg |
認証 |
|
1200C 3ゾーン管状炉(60, 80, 100mm)OTF-1200X-IIは、チタンシートのアニール、急速熱処理、ハイブリッド物理化学蒸着(HPCVD)、急速熱蒸着(RTE)、水平ブリッジマン結晶成長(HDC)を様々な雰囲気下で行うことができ、新世代材料の研究に適しています。
1200℃3ゾーン管状炉(60,80,100mm)OTF-1200X-IIは 、製品の品質を損なわないよう、保管・輸送に細心の注意を払っています。
特徴 |
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使用温度 |
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使用電圧 |
AC 220V 50Hz |
パワー |
3KW |
部屋システム |
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溶融石英管 |
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真空フランジとゲージ |
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温度制御 |
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真空ポンプ |
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保証期間 |
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装置寸法 |
1270mm L*400mm W* 540mm H(閉じた状態) 1270mm L*560mm W* 750mm H (開いた状態) |
重量 |
40kg |
認証 |
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*上記の製品情報は理論値に基づくもので、参考用です。実際の仕様は異なる場合があります。
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