ニッケルシリサイド蒸着材の説明
ニッケルシリサイド(NiSi2)蒸発材料は、シリサイドセラミック蒸発材料です。高純度のNiSi2蒸発材料は、高品質の蒸着膜を確保するために、蒸着プロセスで大きな役割を果たしています。
Stanford Advanced Materialsが提供するニッケルシリサイド蒸発材料は、化学式NiSi2で表されるシリサイドセラミック蒸発材料です。高純度のNiSi2蒸発材料は、蒸着プロセスにおいて重要な役割を果たし、高品質の蒸着膜の作成を保証します。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、純度99.9995%に達する蒸発材料の製造に優れており、厳格な品質保証プロセスにより、完璧な製品の信頼性を保証します。
ニッケルシリサイド蒸着材料仕様
材料タイプ |
ニッケルシリサイド |
記号 |
NiSi2 |
融点 |
1,255 °C (2,291 °F; 1,528 K) |
密度 |
7.40 g/cm3 |
純度 |
99.9% |
形状 |
粉末/ 顆粒/ 特注品 |
ニッケルシリサイド蒸着材料の用途
ニッケルシリサイド蒸着材料は、半導体蒸着、化学蒸着(CVD)、物理蒸着(PVD)などの蒸着プロセスで幅広く使用されています。ニッケルシリサイド蒸着材料は、主に光学分野で使用され、摩耗保護、装飾コーティング、ディスプレイ技術に貢献しています。
ニッケルシリサイド蒸着材料の包装
合理的な識別と品質管理を確実にするため、ニッケルシリサイド蒸着材料には細心のタグと外部ラベルが付けられています。また、保管中や輸送中の破損を防ぐため、細心の注意を払っています。