炭化ケイ素るつぼの説明
炭化ケイ素るつぼは、極端な温度や過酷な化学環境に耐えるように設計された高性能で耐久性のある容器で、金属やその他の物質を溶解して保持するために、冶金学、鋳造作業、および材料科学研究で一般的に使用されています。シリコンと炭素の化合物である炭化ケイ素から作られ、金属の高い熱伝導性とセラミックの高温耐性と強度を兼ね備えています。
炭化ケイ素るつぼの仕様
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材質
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炭化ケイ素
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外観
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暗褐色~黒色るつぼ
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使用温度
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≤1540°C
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寸法
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100、200、500、1000ml、またはカスタマイズ
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密度
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3.0〜3.2g/cm3
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引張強さ
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210~370MPa(極限)
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熱伝導率
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120~170 W/m-K
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熱膨張率
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4.0~4.5μm/m・K
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ヤング率
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370~490 GPa
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製品図面例:

特注るつぼ形状も承ります(図面による)。
炭化ケイ素るつぼの用途
- 金属加工および鋳造作業:SiCるつぼは、高温および攻撃的なスラグに耐える能力により、鉄および非鉄金属の溶解に冶金産業で広く使用されています。
- ガラスおよびセラミック製造:高温と耐薬品性が必要なガラスおよびセラミック製造に必要な材料の溶解および処理に適しています。
- 化学分析:実験室では、これらのるつぼは、精密で汚染のない条件が不可欠な高温化学分析および実験に利用されます。
- 粉末冶金:SiCるつぼは、粉末金属およびセラミックの焼結および溶解を促進し、先端材料の開発に貢献します。
- エネルギー生産:その高温能力により、特定のタイプの原子炉や、原子力を含むエネルギー用途で使用される材料の処理に適しています。
製品比較
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るつぼの種類
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材料
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最高温度 (°C)
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熱伝導性
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耐熱衝撃性
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耐薬品性
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用途
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石英セラミック
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石英セラミック
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1100
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低い
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高
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高
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一般実験室
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BeOセラミック
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酸化ベリリウム
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1800
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非常に高い
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高い
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高温
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高温、電子機器
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PGコートC
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PGコート黒鉛
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2000
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高温(異方性)
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非常に高い
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高い
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結晶成長、蒸発
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PGコートPBN
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PGコートPBN
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1800
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高い
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非常に高い
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非常に高い
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高純度結晶成長
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PBNるつぼ
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熱分解BN
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1800
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高純度
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非常に高い
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非常に高い
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MBE、OLED、VGF、LECプロセス
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AlNるつぼ
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窒化アルミニウム
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1800
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高い
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高い
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高
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半導体、パッケージング
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SiCるつぼ
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炭化ケイ素
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1600
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高い
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非常に高い
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高い
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金属溶解、鋳造
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H-BNるつぼ
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ホットプレスBN
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1800
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中程度
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非常に高い
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高い
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金属加工、はんだ付け
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チタン酸アルミニウム
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チタン酸アルミニウム
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1400
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低い
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優秀
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中程度
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熱サイクル、ガラス産業
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アルミナるつぼ
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酸化アルミニウム
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1700
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中程度
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中程度
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高温
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一般高温用
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Si用石英
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溶融石英
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1200
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低い
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高
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高
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シリコン単結晶成長 (Czochralski)
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炭化ケイ素るつぼの 梱包
当社の炭化ケイ素るつぼは、製品の品質を元の状態で維持するために、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。