モリブデンニオブ合金ロータリーターゲットの説明
スタンフォードアドバンストマテリアルズ(SAM)は 、先端コーティング用途での高効率薄膜蒸着用に設計された高品質のモリブデン-ニオブ(MoNb)合金ロータリーターゲットを提供しています。これらのターゲットは通常、モリブデン90%とニオブ10%を含み、モリブデンの高融点、優れた熱伝導性と電気伝導性、ニオブの強化された機械的強度と耐食性を兼ね備えています。この合金は、優れた皮膜密着性、耐酸化性の向上、厳しい環境下での長持ちする性能を保証します。
MoNbロータリーターゲットは、プレーナーターゲットと比較して高い材料利用率(最大80~90%)を提供し、耐用年数を延ばし、生産コストを削減します。SAMは、精密な結晶粒構造制御と均一な組成でこれらのターゲットを製造し、一貫したスパッタリング性能と優れたコーティング均一性を保証します。SAMのMoNbロータリーターゲットは、フラットパネルディスプレイ、半導体コーティング、光学フィルム、薄膜太陽電池などの用途に最適です。高度な加工技術と厳格な品質管理により、SAMは業界のニーズに合わせた信頼性と耐久性の高いスパッタリング材料を提供しています。
モリブデン・ニオブ合金ロータリーターゲット仕様
特性
グレード
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密度
(g/cm3)
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平均粒径
(μm)
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粗さ
(μm)
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真直度
(mm)
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接合率
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MoNb5
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≥10.00
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≤100
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≤0.8
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≤0.30
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≥97%
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MoNb10
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≥9.90
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≤100
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≤0.8
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≤0.30
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≥97%
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化学組成%
化学組成
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MoNb5
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MoNb10
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主成分, %, min
Mo
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Mo
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94.85-95.05
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89.85-90.05
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Nb
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5.00±0.1
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10.00±0.1
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不純物含有量(質量分率)、
最大
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Al
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0.0050
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0.0050
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Cr
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0.0050
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0.0050
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銅
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0.0050
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0.0050
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鉄
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0.0100
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0.0100
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ニッケル
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0.0050
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0.0050
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Si
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0.0060
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0.0060
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C
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0.0150
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0.0150
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O
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0.0800
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0.0800
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N
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0.0300
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0.0300
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*上記の製品情報は理論値に基づいています。具体的なご要望、詳細につきましては、お問い合わせください。
モリブデン・ニオブ合金ロータリーターゲットの用途
- フラットパネルディスプレイ(TFT-LCD、OLED):薄膜トランジスタ(TFT)製造における導電層およびバリア層として使用され、ディスプレイの性能および耐久性を向上させる。
- 半導体およびマイクロエレクトロニクス集積回路やマイクロチップ製造に応用され、高純度で安定した信頼性の高い薄膜コーティングを実現する。
- 光学コーティング高精密光学機器用の反射防止膜、保護膜、導電膜の性能を向上させる。
- 薄膜太陽電池(CIGS & Photovoltaics):バックコンタクト層として機能し、ソーラーパネルのエネルギー効率と耐食性を向上させる。
- 耐食性保護膜過酷な環境下での酸化やアルカリ腐食に優れた耐性を発揮します。
モリブデン・ニオブ合金ロータリーターゲットの包装
当社の製品は、材料の寸法に基づいて様々なサイズのカスタマイズされたカートンに梱包されています。小さな商品はPP箱にしっかりと梱包され、大きな商品は特注の木箱に入れられます。梱包のカスタマイズを厳守し、適切な緩衝材を使用することで、輸送中に最適な保護を提供します。

梱包カートン、木箱、またはカスタマイズ。
製造工程
1.簡単な製造工程の流れ

2.試験方法
- 化学成分分析 - GDMSやXRFなどの技術を用いて検証し、純度要件への適合を確認する。
- 機械的特性試験 - 材料性能を評価するための引張強さ、降伏強さ、伸び試験を含む。
- 寸法検査 - 厚さ、幅、長さを測定し、指定された公差に準拠していることを確認します。
- 表面品質検査 - 目視および超音波検査により、傷、亀裂、介在物などの欠陥をチェックします。
- 硬度検査 - 材料の硬度を測定し、均一性と機械的信頼性を確認します。
モリブデン・ニオブ合金ロータリーターゲットに関するFAQ
Q1: 平面ターゲットと比較して、MoNbロータリーターゲットを使用する利点は何ですか?
A1: MoNbロータリーターゲットは、プレーナーターゲットと比較して、材料利用率が高く(最大80~90%)、耐用年数が長く、均一な薄膜蒸着が可能なため、大面積コーティングのコスト効率が高くなります。
Q2:MoNbロータリーターゲットはどのような用途に一般的に使用されていますか?
A2: TFT-LCDディスプレイ、半導体コーティング、光学コーティング、薄膜太陽電池、耐腐食性保護層などに広く使用されています。
Q3: スパッタリングターゲットのモリブデンにニオブを添加するメリットは何ですか?
A3: ニオブはモリブデンの耐食性、耐酸化性、機械的強度を高め、ターゲットの耐久性と薄膜品質を向上させます。
他社製品との性能比較表
モリブデンニオブ合金ロータリーターゲットとモリブデンニオブ合金プレーナターゲットの比較
特徴
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モリブデンニオブ合金ロータリーターゲット
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モリブデンニオブ合金平面ターゲット
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材料利用率
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最大80-90
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30-40%程度
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耐用年数
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長く、交換頻度を低減
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より短く、より頻繁な交換が必要
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コーティングの均一性
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均一性が高く、大面積コーティングに最適
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厚みにばらつきがある場合がある
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製造コスト
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初期コストは高いが、長期的には経済的
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イニシャルコストは低いが、交換頻度が高い
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用途
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大面積コーティング
(TFT-LCD、太陽電池、光学コーティング)
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小面積コーティング
(半導体、精密電子機器)
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スパッタリング安定性
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安定性が高く、材料ロスが少ない
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浸食ムラによる安定性低下の可能性あり
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対応装置
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回転式スパッタリング装置が必要
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従来の平面スパッタリング装置と互換性あり
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モリブデンニオブ合金ロータリーターゲットとモリブデンニオブ合金プレーナターゲットの比較
特徴
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MoNb合金ロータリーターゲット
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純モリブデンロータリーターゲット
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組成
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通常Mo90%、Nb10
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純度99.9%以上のモリブデン
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材料利用率
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高い (80-90%)
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高い (80-90%)
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耐食性
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ニオブの添加により優れる
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中程度
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耐酸化性
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耐酸化性が向上
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良好だがMoNbより低い
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機械的強度
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より強く、耐久性向上
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MoNbより低い
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熱安定性
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高い、高温コーティングに適する
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高い、優れた耐熱性
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薄膜均一性
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良好
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良好
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コーティング密着性
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強力、ニオブにより改善
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良好
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用途
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TFT-LCD、半導体、光学コーティング、太陽電池
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TFT-LCD、半導体、工業用コーティング
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コスト
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合金化プロセスによりやや高い
|
より低い
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関連情報
- 原材料-モリブデン
モリブデン(Mo)は、高融点、優れた熱伝導性、電気伝導性、優れた耐食性を持つ耐火性金属です。銀灰色の金属で、その強度と過酷な条件下での安定性で知られ、様々な工業用途に不可欠です。
主な特性
原子番号:42
原子量: 95.95
密度:10.28 g/cm³
融点: 2,617°C (4,723°F)
沸点:4,639℃(8,382°F)
熱伝導率: 138 W/m-K
モリブデンの用途
エレクトロニクスと薄膜コーティング:TFT-LCDディスプレイ、ソーラーパネル、半導体部品のスパッタリングターゲットに使用される。
航空宇宙および高温環境:耐熱性があるため、航空機やロケット部品の高性能合金に使用される。
エネルギー産業:原子炉、発電、高温炉に不可欠。
鉄鋼および金属合金:ステンレス鋼や超合金の強度、硬度、耐食性を向上させる。
化学工業石油精製や化学処理において触媒として働く。
モリブデンは、高温安定性、耐久性、導電性を併せ持つユニークな材料であるため、特に先端製造業や技術用途において、さまざまな産業で貴重な材料となっている。
仕様
プロパティ
グレード
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密度
(g/cm3)
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平均粒径
(μm)
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粗さ
(μm)
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真直度
(mm)
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接合率
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MoNb5
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≥10.00
|
≤100
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≤0.8
|
≤0.30
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≥97%
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MoNb10
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≥9.90
|
≤100
|
≤0.8
|
≤0.30
|
≥97%
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化学組成%
化学組成
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MoNb5
|
MoNb10
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主成分, %, min
Mo
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Mo
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94.85-95.05
|
89.85-90.05
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Nb
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5.00±0.1
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10.00±0.1
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不純物含有量(質量分率)、
最大
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Al
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0.0050
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0.0050
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Cr
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0.0050
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0.0050
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銅
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0.0050
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0.0050
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鉄
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0.0100
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0.0100
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ニッケル
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0.0050
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0.0050
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Si
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0.0060
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0.0060
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C
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0.0150
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0.0150
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O
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0.0800
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0.0800
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N
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0.0300
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0.0300
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*上記の製品情報は理論値に基づいています。具体的なご要望、詳細につきましては、お問い合わせください。