熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ)の説明
熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ)は、分子線エピタキシー(MBE)装置用に設計された専用容器です。MBEは、半導体製造に使用される精密な薄膜蒸着技術です。分子ビームまたは原子ビームを使用して、基板上に材料を1層ずつ蒸着させます。MBEは、厚さと組成を正確に制御して高品質の薄膜を作成できることで知られています。PBNるつぼは高温・真空環境で使用されることが多く、半導体製造や結晶成長の用途に適しています。
熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ)の仕様
PBN 機械的特性
項目
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データ
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単位
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密度
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g/cm3
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1.95-2.20
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引張強さ
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MPa
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112
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曲げ強さ
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MPa
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173
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圧縮強さ
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MPa
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154
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ヤング率
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GPa
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18
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熱伝導率
(1500℃以下)
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W/m
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"a" 60
"c" 2
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比熱
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J/g
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0.90 (RT)
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抵抗率
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Ω.cm
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2×1015
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絶縁耐力
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D.C.ボルト/ミリメートル
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2×1015
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誘電率
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-
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"c" 3.07
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金属不純物含有量
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ppm
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<10
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PBN LECるつぼの仕様
最大直径 (ID)
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最大高さ
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厚さ
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12"
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17"
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カスタマイズ
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熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ)の用途
熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ)は、分子線エピタキシー法に不可欠であり、材料の蒸発を制御し、高純度を維持し、半導体デバイス製造用の高品質薄膜の製造に貢献します。
熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ) パッケージング
当社の「熱分解窒化ホウ素るつぼ(MBEタイプ)」は、製品の品質を原液のまま維持するため、保管・輸送時の取り扱いに細心の注意を払っています。
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